Sumitomo Electric Industries, Ltd. (Kantor pusat: Chuo-ku, Osaka, Presiden: Osamu Inoue, setelah ini disebut sebagai "perusahaan kami") telah mengembangkan dan meluncurkan grade baru pembubutan baja efisiensi tinggi 東京 カジノ20P yang diluncurkan ke pasaran pada Juni 2021.
Dalam pembubutan komponen mesin untuk industri otomotif, permesinan listrik berat, baja, komponen permesinan konstruksi dan lainnya, terjadi peningkatan kebutuhan akan efisiensi lebih tinggi serta masa pakai alat yang lebih lama untuk alat pemotong untuk mengurangi waktu dan biaya permesinan. Selain itu, dikarenakan situs manufaktur sedang mengurangi personel (otomatisasi, beroperasi tanpa awak), diperlukan stabilitas proses tanpa adanya masalah tak terduga selama pemotongan. Menanggapi kebutuhan tersebut, perusahaan kami mengembangkan grade baru 東京 カジノ20P, ideal untuk pembubutan baja dengan efisiensi lebih tinggi.
Bersama dengan 東京 カジノ15P untuk permesinan berkecepatan tinggi, 東京 カジノ25P yang serbaguna, dan 東京 カジノ35P untuk permesinan terinterupsi, Seri 東京 カジノ00P untuk pembubutan baja kini terdiri dari empat grade. Perusahaan kami mewujudkan efisiensi yang meningkat secara signifikan dan penurunan biaya permesinan di seluruh proses pembubutan baja.
1. Fitur
Penggunaan ABSOTECH™, teknologi pelapisan CVD* milik kami, pada substrat karbida keras makin menyempurnakan kekuatan tinggi lapisan alumina dengan orientasi kristal terkontrol, memungkinkan ketahanan tinggi terhadap aus dan chipping. Ketahanan chipping 2,5x lebih kuat dibanding grade konvensional, dengan stabilitas yang sangat baik dan masa pakai alat yang panjang di permesinan efisiensi tinggi untuk baja karbon medium hingga tinggi.
2. Line Up
Sisipan: Total 330 Cat. Nos.
3. Rencana Penjualan
JPY 280 juta/Tahun pada tahun pertama, JPY 1 miliar/Tahun setelah 3 tahun
4. Harga
(Produk Standar) CNMG120408N-GU: 850 JPY (tidak termasuk pajak)
*CVD (Pengendapan Uap Kimia): Metode pengendapan vakum yang menggunakan reaksi gas untuk membentuk lapisan tipis material. Dalam metode ini, gas material mentah, yang berisi bahan pelapisan tipis target, dipasok ke material substrat yang dipanaskan dalam ruang reaksi, membentuk pelapis dari reaksi kimia dalam fase gas atau di permukaan substrat.
