Sumitomo Electric Industries, Ltd. (Kantor pusat: Chuo-ku, Osaka, Presiden: Osamu Inoue, selanjutnya disebut "perusahaan kami") telah mengembangkan dan meluncurkan grade baru AC8115P yang sangat cocok untuk pembubutan kering baja dengan efisiensi lebih tinggi, 東京 カジノroduk ini diluncurkan ke pasaran mulai September 2024.
Dalam pembubutan komponen mesin untuk industri otomotif dan lainnya seperti permesinan listrik berat, baja, 東京 カジノermesinan konstruksi, terjadi peningkatan permintaan tidak hanya terkait masa pakai alat pemotongan yang lebih lama dan biaya yang lebih rendah, tetapi juga terkait permesinan dengan efisiensi lebih tinggi 東京 カジノermesinan kering dengan konsumsi daya lebih rendah untuk mendukung transformasi ramah lingkungan. Jenis permesinan ini membutuhkan alat pemotongan dengan ketahanan aus yang lebih tinggi daripada standar konvensional.
Untuk menanggapi kebutuhan tersebut, perusahaan kami mengembangkan grade baru AC8115P yang sangat cocok untuk pembubutan baja dengan efisiensi lebih tinggi 東京 カジノermesinan kering. AC8115P memiliki ketahanan yang sangat baik terhadap keausan dalam pembubutan mesin sehingga dapat secara efektif memperpanjang masa pakai alat, mengurangi biaya, dan turut mendorong transformasi yang ramah lingkungan.
1. Fitur
Penggunaan teknologi pelapisan CVD* (AbsotechTM) perusahaan kami yang dikombinasikan dengan lapisan alumina dengan teknologi kontrol orientasi kristal yang lebih baik dan substrat karbida baru dengan ketahanan deformasi plastik yang sangat baik telah secara signifikan meningkatkan ketahanan terhadap keausan. Hal ini memungkinkan kami menawarkan alat dengan masa pakai panjang untuk pembubutan efisiensi tinggi 東京 カジノermesinan kering untuk baja.
2. Jajaran
Insert: Total 679 No. Kat.
3. Rencana Penjualan
120 juta JPY/tahun pada tahun pertama, 680 juta JPY/tahun setelah 3 tahun
4. Harga
(Produk Standar) CNMG120408N-GU AC8115P: 1.030 JPY (tidak termasuk pajak)
*CVD (Chemical Vapor Deposition):
Metode pengendapan vakum yang menggunakan reaksi gas untuk membentuk lapisan tipis material. Dalam metode ini, gas material mentah, yang berisi bahan pelapisan tipis target, dipasok ke material substrat yang dipanaskan dalam ruang reaksi sehingga terbentuk pelapis dari reaksi kimia dalam fase gas atau di permukaan substrat.
